热喷涂旋转硅靶材通用技术标准
时间:2024-11-08 发布人:admin 点击数:0
一、外观质量
表面颜色应均匀,靶表面应平整,无裂纹,无崩边,气孔直径不大于0.5m,且无外来夹杂物和污染物。在照度800 1m的日光灯照条件下,通过目测和量具检验,量具精度优于0.02mm。
二、硅粉纯度
硅粉标称含量应大于等于99.95%,杂质含量符合以下标准。按YS/T 935的规定进行检测。
三、尺寸偏差
四、密度
涂层密度(p)应大于等于2.2 g/cm,且密度均匀性偏差应小于等于±2%。单根产品进行破坏性取样,取样位置分别为涂层两端和中间位置,取三组样品,每组重量在5g~10g,按GB/T1423的规定测试。密度均匀性偏差根据三组样品的测试密度数值计算,取三组样品密度数值的算术平均值作为密度平均值,每组样品密度数值未超出密度平均值的±2%,判定密度均匀性偏差合格。
五、电阻率
涂层电阻率应小于0.05 Ω•cm。
六、涂层有害物质指标