硅靶材_扬州晶格半导体有限公司

PRODUCT 硅靶材

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硅靶材

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硅材料

光学制品

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碳化硅制品

单晶硅平面靶材单晶硅靶材生产优选直拉法或区熔法制得的高纯度单晶硅棒作原料，用高精度设备切割后，再经研磨、抛光精细加工。纯度高、晶体好、化学稳定，用于半导体、光学和显示领域沉积薄膜。
多晶硅平面靶材多晶硅靶材生产选铸造法制得的高纯度多晶硅锭作原料，经高精度切割成合适尺寸并保平面度，再打磨、抛光。成本低、稳定性好，用于半导体、光伏、平板显示沉积薄膜。
热喷涂旋转硅靶材利用等离子热喷涂将硅粉喷涂在衬管上形成靶材，具有高利用率和良好溅射均匀性的优势，在半导体、光学薄膜等领域广泛应用，能有效满足镀膜需求。
多晶硅旋转靶材多晶硅旋转靶材先经铸造法得锭，再开方处理。精心掏内孔后，通过磨外圆工艺确保外圆表面质量与尺寸精度。其基于多晶结构，溅射均匀性优、材料利用率高，在电子工业、显示屏制造等领域应用广泛。