纯水，作为一种无机化合物，其化学式为H₂O，是地球上最为常见且重要的物质之一。纯水不仅是生物体不可或缺的成分，而且在化工、冶金、电子等多个领域都有着广泛的应用。

电子级别纯水国家标准主要包括《电子级水》（GB/T 11446.1-1997）和《中国实验室用水国家标准》（GB 6682-1992）等。其中，《电子级水》标准将电子级水分成四个级别，对电阻率、硅含量、微粒数、细菌个数等指标做出了规定，具体内容如下：

多晶硅料、光伏硅片、半导体器件等清洗过程中所需的纯水需要符合《电子级水》标准中18MΩ·cm以上的EW-1级别，目前最有效的制水工艺是预处理+反渗透（RO）+电去离子（EDI）+总碳去除（TOC）+抛光。

1. 预处理：对原水进行预处理，去除其中的悬浮物、胶体、有机物等杂质，常用的预处理方法有砂滤、活性炭吸附、软化等。

2. 反渗透：利用反渗透膜的选择透过性，在压力驱动下将原水中的离子、有机物、细菌等杂质分离出来，获得高纯度的水。RO水的电阻率一般在0.05-0.2MΩ·cm。

3. EDI：是一种将离子交换树脂和离子选择性透过膜结合在一起的水处理技术。该技术不需要使用酸、碱等化学药剂再生，而是通过电驱动离子迁移来实现水的净化和离子的去除。EDI水的电阻率一般在15MΩ·cm。

4. TOC去除：TOC是水中有机物的含量指标，主要来源于有机物在水中的分解和溶解。为了去除TOC，通常采用氧化方法，如紫外线（UV）氧化、臭氧氧化或高级氧化工艺（AOP）。这些氧化方法可以将有机物氧化为二氧化碳，从而降低TOC含量。

5. 抛光：是在超纯水制备的最后阶段使用的，目的是进一步降低水的电阻率、去除微小的颗粒和溶解物，以及改善水的光泽度。抛光工艺可以确保超纯水满足18MΩ·cm的纯度要求。