溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（Physical Vapor Depositi...

2024 年 10 月 16 日，备受瞩目的 2024 第三届江苏国际石英产业大会在连云港盛大开幕。扬州晶格半导体有限公司作为行业内的佼佼者...

硅靶材的电阻率要求因应用领域的不同而有所差异，电阻率对硅靶材的性能有诸多影响。

一、物理原理方面1. 电场作用：- 在溅射镀膜设备中，通常会施加一个电场。由于靶材连接在电源的负极，也就是阴极，而基片连接在电源的正极，也就...

在溅射镀膜的过程中，起辉是至关重要的一步，它标志着镀膜工艺的正式开始。然而，有时会遭遇溅射镀膜无法起辉的难题，这给生产带来了极大的困扰。磁性...

在溅射镀膜的过程中，靶材结瘤是一个较为常见却又棘手的问题。靶材结瘤，就像是一颗隐藏在镀膜工艺中的“定时炸弹”，随时可能对镀膜质量产生严重影响...

一、工艺参数问题1. 溅射功率过高：- 过高的溅射功率可能导致靶材表面局部温度过高，引起材料的不均匀蒸发和沉积，从而形成橘皮状表面。- 你可...

溅射镀膜是一种物理气相沉积技术，它利用高能粒子轰击靶材，使靶材表面的原子或分子溅射出来，然后在基片上沉积形成薄膜。这种技术可以在各种材料表面...

在先进的薄膜制备技术领域，溅射镀膜以其独特的优势占据着重要地位。然而，在这个过程中，靶中毒现象却如同一个隐形的“敌人”，时刻影响着镀膜的质量...