1、不同氩气进口流量对磷杂质分布的影响过去的研究大多集中于氩气、炉压对氧含量的影响，极少提到氩气、炉压对磷杂质的分布的影响。为了改善单晶硅棒...

改良西门子CVD 法是在还原炉内通入高纯的三氯氢硅(TCS) 和氢气(H2)，使其通过化学气相沉积反应将多晶硅沉积在热载体上( 即硅芯)，但...

在直拉单晶硅晶体内部，氧与碳是单晶硅内部最主要的杂质元素。其中氧的来源主要包括两部分，第一部分是多晶硅料里面本身存在的氧杂质，第二部分是在石...

直拉单晶硅晶体生长炉具有非常多的构件，这些构件必须协同工作，以精确控制晶体提拉过程的热环境，确保高品质晶体的顺利生长。图 1-3 为晶体生长...

单晶硅，凭借其高度有序的原子结构和优异的电学性能，成为半导体产业的中流砥柱。从日常使用的手机、电脑，到高端的航天设备、超级计算机，单晶硅芯片...

在电子的微观世界里，有一个神秘的物理量，默默掌控着电流的流动，它就是电阻率。无论是点亮家中灯泡的电线，还是手机芯片里的微小电路，电阻率都在其...

在半导体材料的璀璨星空中，6H - SiC凭借其优异的物理化学特性与电学特性，成为了科研领域的焦点。从高温电子器件到高频通信元件，6H - ...

在半导体材料的广阔天地中，碳化硅（SiC）作为第三代半导体材料的佼佼者，正凭借其独特优势，在高温、高频、高功率及高压器件领域崭露头角。然而，...

在光伏产业蓬勃发展的当下，多晶硅作为制造太阳能电池的关键原材料，备受瞩目。不过，多晶硅生产过程中产生的副产品，同样有着不可忽视的价值。 四氯...