一、外观质量表面颜色应均匀，靶表面应平整，无裂纹，无崩边，气孔直径不大于0.5m，且无外来夹杂物和污染物。在照度800 1m的日光灯照条件下...

在现代科技领域中，薄膜技术发挥着至关重要的作用。而磁控溅射镀膜作为一种常用的薄膜制备方法，其工艺的成功与否关键在于对薄膜性能的准确表征。 一...

磁控溅射镀膜工艺参数对薄膜的性能有着决定性的影响。这些参数包括溅射气压、溅射功率、靶基距、基底温度、偏置电压、溅射气体等。通过精确控制这些参...

在磁控溅射镀膜技术中，溅射靶材的重要性不言而喻。它作为关键组成部分，其材料种类、纯度以及表面状态对薄膜性能有着直接且深刻的影响。精心选择合适...

在行业招聘薪酬的 TOP10 榜单中，半导体行业受政策及企业开年布局影响，在第一季度表现突出，位居第四位，其平均薪酬为 11935。在第二季...

会议名称：2024第三代半导体材料前沿技术研讨会会议时间：2024年12月4日-6日（4日报到、布展）会议规模：600+会议地点：江苏 无锡...

溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（Physical Vapor Depositi...

硅靶材的电阻率要求因应用领域的不同而有所差异，电阻率对硅靶材的性能有诸多影响。

一、物理原理方面1. 电场作用：- 在溅射镀膜设备中，通常会施加一个电场。由于靶材连接在电源的负极，也就是阴极，而基片连接在电源的正极，也就...